ISO/WD 19383
Atomic Layer Deposition-- Chemical characteristics and related process specifications of atomic layer deposition precursors
Reference number
ISO/WD 19383
Edición 1
Working draft
ISO/WD 19383
89126
Un grupo de trabajo ha preparado un borrador.

Resumen

This document describes the chemical characteristics and related process specifications of the atomic layer deposition precursors, including assay content, metal purity, and anion content specification.

Informaciones generales

  •  : En desarrollo
    : Estudio del borrador del trabajo (WD) iniciado [20.20]
  •  : 1
  • ISO/TC 107
  • RSS actualizaciones

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